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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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”干式”清潔-等離子體表面處理設(shè)備的高效表層清潔

”干式”清潔-等離子體表面處理設(shè)備的高效表層清潔:
       干式等離子前處理塑料、鋁甚至玻璃的后期噴涂工藝開創(chuàng)了最理想的表層條件。

等離子體表面處理設(shè)備

      等離子清洗是一類”干式”清潔過程，處理后材料可立即進(jìn)入下一個(gè)生產(chǎn)過程，因而等離子體表面處理設(shè)備可以是穩(wěn)定高效的工藝過程。由于等離子體的高能量，材料表面的化學(xué)物質(zhì)或有機(jī)污染物可以分解，有效去除所有可能干擾附著的雜質(zhì)，使材料表面滿足后期噴涂過程的良好條件。使用等離子體技術(shù)按工藝要求進(jìn)行表層清潔，表層無機(jī)械損傷，無化學(xué)溶劑，完整的綠色的綠色環(huán)保工藝、脫模劑、添加劑、增塑劑或其他由碳?xì)浠衔锝M成的表面污染。

       等離子體表面處理設(shè)備外表面清潔能消除粘在塑料表面的非常小的灰塵顆粒。通過一系列的反應(yīng)和相互作用，等離子體可以從物體表面完全去除這些灰塵顆粒。這可以大大降低高質(zhì)量要求的涂料作業(yè)的廢品率，如汽車工業(yè)的涂料工藝。通過微觀層面的一系列物理和化學(xué)作用，等離子體外表面清潔作用可以獲得優(yōu)質(zhì)的表層。

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